设备型号 | HGL1352 |
光路来源 | 自主设计 |
激光器来源 | 中国 |
激光器冷却方式 | 水冷 |
激光器质保 | 24000小时 |
激光器最大功率 | >18W (@100KHz) |
最大加工晶圆尺寸 | 12寸 |
切割轴有效行程 | 310mm |
切割轴最大速度 | 1000mm/s |
切割轴最大加速度 | 1.5G |
切割轴直线度 | 1um |
Index轴有效行程 | 310mm |
Index轴定位精度 | ±1um |
Z-轴重复定位精度 | 1μm |
Θ轴最大旋转角度 | 120° |
切割载台平整度 | ≤5μm |
平台基座 | 大理石 |
切割平台(X/Y轴) | 气浮高速平台 |
Wafer Notch识别方式 | 校准器 |
AF动态补偿 | 支持 |
AF测高方式 | 旁轴 |
光束整形 | SLM |
高/低倍影像识别 | IR Camera |
影像自动纠偏功能 | 支持 |
设备型号 | HGL1352 |
光路来源 | 自主设计 |
激光器来源 | 中国 |
激光器冷却方式 | 水冷 |
激光器质保 | 24000小时 |
激光器最大功率 | >18W (@100KHz) |
最大加工晶圆尺寸 | 12寸 |
切割轴有效行程 | 310mm |
切割轴最大速度 | 1000mm/s |
切割轴最大加速度 | 1.5G |
切割轴直线度 | 1um |
Index轴有效行程 | 310mm |
Index轴定位精度 | ±1um |
Z-轴重复定位精度 | 1μm |
Θ轴最大旋转角度 | 120° |
切割载台平整度 | ≤5μm |
平台基座 | 大理石 |
切割平台(X/Y轴) | 气浮高速平台 |
Wafer Notch识别方式 | 校准器 |
AF动态补偿 | 支持 |
AF测高方式 | 旁轴 |
光束整形 | SLM |
高/低倍影像识别 | IR Camera |
影像自动纠偏功能 | 支持 |