| 设备型号 | HGL1352 |
| 光路来源 | 自主设计 |
| 激光器来源 | 中国 |
| 激光器冷却方式 | 水冷 |
| 激光器质保 | 24000小时 |
| 激光器最大功率 | >18W (@100KHz) |
| 最大加工晶圆尺寸 | 12寸 |
| 切割轴有效行程 | 310mm |
| 切割轴最大速度 | 1000mm/s |
| 切割轴最大加速度 | 1.5G |
| 切割轴直线度 | 1um |
| Index轴有效行程 | 310mm |
| Index轴定位精度 | ±1um |
| Z-轴重复定位精度 | 1μm |
| Θ轴最大旋转角度 | 120° |
| 切割载台平整度 | ≤5μm |
| 平台基座 | 大理石 |
| 切割平台(X/Y轴) | 气浮高速平台 |
| Wafer Notch识别方式 | 校准器 |
| AF动态补偿 | 支持 |
| AF测高方式 | 旁轴 |
| 光束整形 | SLM |
| 高/低倍影像识别 | IR Camera |
| 影像自动纠偏功能 | 支持 |
| 设备型号 | HGL1352 |
| 光路来源 | 自主设计 |
| 激光器来源 | 中国 |
| 激光器冷却方式 | 水冷 |
| 激光器质保 | 24000小时 |
| 激光器最大功率 | >18W (@100KHz) |
| 最大加工晶圆尺寸 | 12寸 |
| 切割轴有效行程 | 310mm |
| 切割轴最大速度 | 1000mm/s |
| 切割轴最大加速度 | 1.5G |
| 切割轴直线度 | 1um |
| Index轴有效行程 | 310mm |
| Index轴定位精度 | ±1um |
| Z-轴重复定位精度 | 1μm |
| Θ轴最大旋转角度 | 120° |
| 切割载台平整度 | ≤5μm |
| 平台基座 | 大理石 |
| 切割平台(X/Y轴) | 气浮高速平台 |
| Wafer Notch识别方式 | 校准器 |
| AF动态补偿 | 支持 |
| AF测高方式 | 旁轴 |
| 光束整形 | SLM |
| 高/低倍影像识别 | IR Camera |
| 影像自动纠偏功能 | 支持 |